当日はハイブリッド開催で約60名の会員の皆さまにご参加いただきました。今回はキャノン、芝浦メカトロニクス、CrossPas社 の専門家らが登壇し、NILを半導体デバイス製造に適用する際の各種課題とデバイス製造に不可欠な平坦化技術について紹介が行われました。特に、現地開催のみで実施された総合討論では、講師陣に加え、ゲストとして大日本印刷の専門家も参加し、聴講者を交えた活発な意見交換が行われました。続く交流会においては終始賑やかな雰囲気の中で議論が交わされ、産学交流が一層深まる有意義な機会となりました。

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次回開催：2026年2月20日（金）

テーマ　：水資源をめぐる最新技術とその展望

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