名古屋大学・低温プラズマ科学研究センターでは、下記の通り、第4回グローバルプラズマフォーラムを開催いたします。
今回は特別版として、名古屋大学DII卓越大学院との共催で、マイクロンテクノロジー社から占部耕児先生をお招きし、"半導体プロセス技術"に関するセミナーを開催します。
大学院生向けの講義ですが、学部生から企業研究者まで広く聴講いただくことができます。言うまでも無く、当センターに関連深い内容です。トップシェアメーカーの研究者の方から、最先端の研究開発動向に関するお話を伺える貴重な機会ですので、当センターに関係する多くの皆様にご参加いただきたく、お願いする次第です。

日時：11月19日（木）14時45分～16時15分
場所：Zoom
　　　 ※直近の状況を鑑みて、Zoomでの開催のみとなりました。
　　　　 参加登録いただいた方には、近日中にZoom meeting roomのURLをお送りします。
講師：占部 耕児 氏（開発、ダイレクター）
トピック：半導体プロセス技術
概要：半導体プロセスの主要分野であるでリソグラフィ、ドライエッチング、成膜、ウェットプロセスにつき、技術進化を解説し未来を展望する。

参加費： 無料
参加登録： http://www.aip.nagoya-u.ac.jp/industry/about/event/detail/4-1.html
問合せ先： 名古屋大学・低温プラズマ科学研究センター（contact@plasma.engg.nagoya-u.ac.jp）