蕭世男 特任教授が 2024 年に Small Methods 誌へ発表した論文 "Pseudo-Wet Plasma Mechanism Enabling High-Throughput Dry Etching of SiO₂ by Cryogenic-Assisted Surface Reactions" が、学術出版社 WILEY の「Top viewed article 2025」 に選出されました。蕭教授等は、東京エレクトロン（株）と共同で、基板を-60℃に冷却することで、SiO₂膜を超高速でプラズマエッチングできる現象を見出し、その機構を解明しました。このクライオエッチング技術は、10年に1度のプラズマエッチング分野のブレークスルーとして注目されています。

論文はこちらからご覧いただけます。